日本化学会誌 (化学と工業化学)


--Nippon Kagaku Kaishi--

2000, No. 10, 10月

Copyright 2000 by the Chemical Society of Japan


--総 合 論 文--

光学活性な(サレン)ルテニウム錯体を触媒に用いた不斉合成反応
香月 勗
669

--一 般 論 文--

[RhH2(Ph2N3)(PPh3)2]によるアリルベンゼン類の異性化反応および水素化反応
亀田徳幸・米田哲也
677

プロトカテク酸修飾 β-シクロデキストリン鉄(III)錯体触媒を用いた過酸化水素によるベンゼンのヒドロキシ化
櫻庭英剛・堀井雅明・竹堤俊紀
685

プロトカテク酸修飾 β-シクロデキストリン鉄(III)錯体触媒共存下での過酸化水素によるベンゼンのヒドロキシ化における活性種の ESR スペクトルによる解析
櫻庭英剛・入内島さちこ・竹堤俊紀・堀井雅明
695

硫酸化カルボキシメチルデキストランによる線維芽細胞増殖因子(FGF)の活性化
畑中研一・久能めぐみ・清水健吾
705

主鎖に二置換アミド型ノルボルナジエン構造を有するポリ(エステル/アミド)の物性とその耐候性
長部友加里・亀山 敦・中村茂夫・西久保忠臣
709

ヒドロキシ基をブロックしたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の合成と紫外線硬化塗料への応用
肥田敬治・富岡秀雄
717

--技 術 論 文--

水酸化ナトリウムを用いる酸化セリウム系ガラス研磨材のリサイクル工程
加藤和裕・吉岡敏明・奥脇昭嗣
725

--ノ ー ト--

1-ブタノール存在下でのゼオライト合成におけるシリカ源の影響
窪田要一・近江靖則・魚住俊也・佐野庸治
733

ニッケル触媒により水と亜鉛末とから水素を生成する簡便法
酒井睦司・東 浩司
739