日本化学会誌 (化学と工業化学)


--Nippon Kagaku Kaishi--

2000, No. 5, 5月

Copyright 2000 by the Chemical Society of Japan



--総 合 論 文--

電気亜鉛めっき用高耐久性アノードの開発
音川隆一・盛満正嗣・松永守央
299

--一 般 論 文--

完全な光学活性状態が出現する反応モデル
岩元和敏
307

Brusselator から組み立てられた鏡像異性体発生を示す反応モデル
岩元和敏
313

酸化物および貴金属触媒を用いた固定床反応器における C9 石油樹脂の脱フッ素反応
糸井 泰・井上正美
319

テトラクロロ鉄(III)酸メチルトリオクチルアンモニウム塩の光分解
角井昭充・高田大介・渡辺 泰
323

アルカリ賦活法による褐炭・風化炭からの活性炭製造
小林左東司・袁  浩・倉金孝輔・五味克仁・滝口泰之・尾上 薫・山口達明
329

細胞適合性評価試験用標準物質としてのバナジウムおよびニッケルの利用
西村恵美子・岡崎義光
335

2-エチルヘキシルホスホン酸水素 2-エチルヘキシルを担持させた高分子吸着剤による金属イオンの吸着分離
高橋正博・山下泰宏・小坂 悟
341

オホーツク海沿岸地域における酸性沈着
三谷雅肆・横平 弘・野口 泉
347

東広島における降水中有機酸の濃度,沈着量および発生源
三宅隆之・竹田一彦・藤原祺多夫・佐久川弘
357